โซลูชันกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอนแบบส่องกราด (SEM) และ Atomic Force Microscope จาก CIQTEK — ตั้งแต่ Tungsten-filament SEM จนถึงระบบ Field-Emission และ Focused Ion Beam แยกรายละเอียดโครงสร้างได้ถึง 0.6 nm
จุดเริ่มต้นที่เชื่อถือได้สำหรับกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน ให้ภาพคอนทราสต์สูง สำหรับงานวิเคราะห์ประจำ การศึกษา และควบคุมคุณภาพ
เพิ่มโหมด Low-vacuum สำหรับชิ้นงานไม่นำไฟฟ้าและชิ้นงานที่ปล่อยแก๊ส พร้อมประสิทธิภาพที่ kV ต่ำยอดเยี่ยม สำหรับภาพพื้นผิวที่ไวต่อความเสียหาย
ระบบ Tungsten ประสิทธิภาพสูง พร้อม In-lens detection ให้ความละเอียดที่แรงดันต่ำดีเยี่ยมและเห็นรายละเอียดพื้นผิวชัด
FE-SEM สำหรับงานวิเคราะห์ที่ใช้งานได้หลากหลาย รองรับ Detector ครบชุด วิเคราะห์ทั้งสัณฐาน องค์ประกอบ และผลึกศาสตร์ในเครื่องเดียว
ความละเอียดสูงพิเศษด้วย In-lens detection และกำลังขยาย 2.5 ล้านเท่า สำหรับงานวิเคราะห์ระดับนาโนที่ต้องการสูงสุด
ความละเอียดสูงสุดของเรา — 0.6 nm ที่ 15 kV — สำหรับงานวิจัยล้ำสมัยด้านเซมิคอนดักเตอร์ วัสดุพลังงาน และวิทยาศาสตร์ชีวภาพ
แพลตฟอร์ม Dual-beam ผสานการถ่ายภาพด้วยอิเล็กตรอนกับลำไอออนแกลเลียม สำหรับตัดหน้าตัดอย่างแม่นยำ เตรียมชิ้นงาน TEM lamella และขึ้นรูประดับนาโนแบบ 3 มิติ
ภาพจริงจากกล้องจุลทรรศน์อิเล็กตรอน CIQTEK ทั้งงานวัสดุและวิทยาศาสตร์ชีวภาพ คลิกที่ภาพเพื่อดูภาพขยาย
SEM แบบ Tungsten-filament อย่าง SEM 2100 เป็นตัวเลือกที่เชื่อถือได้และคุ้มค่าสำหรับงานถ่ายภาพประจำและ QC ส่วน Field-emission SEM ให้ความละเอียดสูงกว่ามาก — SEM 5000x แยกได้ถึง 0.6 nm ที่ 15 kV — สำหรับงานวิเคราะห์ระดับนาโนที่ต้องการสูง
ได้ SEM 3200 มีโหมด Low-vacuum สำหรับชิ้นงานไม่นำไฟฟ้าและชิ้นงานที่ปล่อยแก๊ส
ได้ ติดตั้ง Detector อย่าง EDS เพื่อวิเคราะห์ธาตุได้ และ SEM 4000Pro รองรับ Detector ครบชุดสำหรับวิเคราะห์สัณฐาน องค์ประกอบ และผลึกศาสตร์
ระบบ Dual-beam DB 550 ผสานการถ่ายภาพอิเล็กตรอนกับลำไอออนแกลเลียม สำหรับตัดหน้าตัดอย่างแม่นยำ เตรียมชิ้นงาน TEM lamella และขึ้นรูประดับนาโนแบบ 3 มิติ
ผู้เชี่ยวชาญของเราจะช่วยเลือกชุด SEM ที่เหมาะกับความละเอียด ปริมาณงาน และงบประมาณของคุณ
ขอรับคำปรึกษา